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田中 茂; 森田 洋昭*; 桜庭 順二*
Japanese Journal of Applied Physics, 19(9), p.1703 - 1710, 1980/00
被引用回数:10 パーセンタイル:48.12(Physics, Applied)水素ガス中でのホローカソード放電実験をした。内径1cm,長さ2cmのBa含浸型Wカソード又は、酸化物塗布Niカソードをホローカソードの電子エミッターとして使用した。ホローカソードを平板陽極と対向させて放電させたところ、1Torr・l/s以上のガス流量で、放電維持電圧は40~60V,放電電流は120A(電源容量により制限された)までであった。このホローカソードを10cmデュオピガトロン型水素イオン源のカソードとして使用した場合には、ガス流量とソース磁場電流に依存するが、80~120Vの放電電圧となった。このイオン源からビーム引出しを行ない、25keVの水素イオンビームが3A得られた。
堀池 寛; 秋場 真人; 荒川 義博; 松田 慎三郎; 桜庭 順二*
Review of Scientific Instruments, 51(11), p.1463 - 1467, 1980/00
被引用回数:2 パーセンタイル:55.67(Instruments & Instrumentation)新しい形のデュオピガトロンイオン源を考えた。これは、ソースプラズマを一次電子をホロー状に供給することによって生成するもので、同軸デュオピガトロンと名付けられた。このイオン源は磁力線の形状と配置を数値計算で求めた結果に基づいて設計され、製作した。実験の結果、一次電子のホロー状の供給と云う概念が大きな引出し面積を有するイオン源に対し有効であることが証明された。
小原 祥裕; 松田 慎三郎; 白形 弘文; 田中 茂
Japanese Journal of Applied Physics, 17(2), p.423 - 428, 1978/02
被引用回数:7デュオピガトロンイオン源を用いて、正電位の引出し電極孔の最適な形状が実験的に調べられた。実験は単一孔引出し電極を用いておこなわれたが、この結果、電極孔の角を面取るすることによりビーム発散は大巾に改善されることがわかった。ただし、大きい面取りは最小の発散を与えるパービアンスを減少させる。この結果は、JFT-2用中性子粒子入射装置のイオン源に適応され、トーラスへの入射パワーを大巾に増大させることを可能にした。一方、イオンビーム軌道計算コードを用いて得られた、最適なイオンビーム放出面の位置は、面取りがビーム発散の改善に有効であることを示している。